| 商家名称 | 信用等级 | 购买信息 | 订购本书 |
 |
 |
微纳尺度制造工程(第3版) |  |
 |
|
微纳尺度制造工程(第3版) | |
出版日期: 2011年5月1日
本书是《微电子制造科学原理与工程技术》的第三版。本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺，不仅介绍了它的物理和化学原理，还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增加的内容包括原子层淀积、电镀铜、浸润式光刻、纳米压印与软光刻、薄膜器件、有机发光二极管以及应变技术在CMOS工艺中的应用等。
喜欢微纳尺度制造工程(第3版)请与您的朋友分享,由于版权原因，读书人网不提供图书下载服务
