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薄膜光学与真空镀膜技术 |  |
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薄膜光学与真空镀膜技术 | |
出版日期: 2013年6月1日
《薄膜光学与真空镀膜技术》比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺，内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系（减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片）的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。
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